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サンプルホルダーサンプルハンドリング

各システムで提供される標準ステージに加えて、SAXS/WAXS機器用のさまざまな専用サンプルホルダーを提供しています。

低ノイズフローセル

液体サンプル用。特に希薄サンプルや低散乱サンプルに最適です。

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説明	温度制御（4～40°C）可能なサンプルチェンジャーで、2 x 48 または 2 x 96 バイアルの処理能力があります。低ノイズフローセルおよびキャピラリーフローセルと組み合わせて使用できます。
機器	Nano-inXider（ナノインサイダー）、Xeuss

BioCUBE（バイオキューブ）

少量のサンプルの溶液散乱用測定セル。マシンビジョンの支援によるサンプルの位置決めが可能です。

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説明	斜入射測定用に設計されたサンプルステージ。最適化されたサンプル調整のために複数の自由度を提供します。高温ステージに対応。
機器	Nano-inXider（ナノインサイダー）、Xeuss

注：上の写真は、Xeuss用の標準サンプルホルダーです。

他に必要なものは？

この他のサンプルホルダーもご利用いただけます。お気軽にお問い合わせください。特定のニーズについてのご相談も喜んでお受けいたします。

サンプル環境

Xenocsは、真空中でのサンプル研究のための幅広いサンプル環境を提供します。これらは、当社のSAXS/WAXS機器のアクセサリーとしてのみご購入いただけます。

温度

多目的温度ステージ

交換可能なマルチサンプルホルダーの温度制御用。

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説明	再充填可能なキャピラリーを最大6つまで設置できる温度制御されたステージ。キャピラリーは再充填可能なため、サンプル測定と同じキャピラリーを使用してバックグラウンド測定ができます。
範囲	動作温度の範囲：-10°C ～ 80°C。水性サンプルの場合は 5°C ～ 70°C。
真空対応	対応する
対応するサンプル	液体、ゲル、粉末
機器	Nano-inXider（ナノインサイダー）、Xeuss

引張、せん断、湿度

引張ステージ

引張応力および温度依存性の研究用。

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説明

LinkamRH95湿度コントローラーとLinkam高温ステージまたはLinkam引張を基盤にした、統合された相対湿度ステージシステム。

範囲

周囲温度から60°Cまでの温度に対して、10%～90%の範囲の相対湿度制御を提供（空気中のみ）。

真空対応

対応しない

対応するサンプル

固体

機器

Xeuss

SAXS WAXS サンプルステージ

SAXS WAXS サンプルステージ – Xenocs社製機器での幅広いサンプルとステージ

SAXS WAXS サンプルステージ – Xenocs社製機器での幅広いサンプルとステージ – 「その場」で変化する条件で液体、ゲル、粉末、固体を測定


Model	Detailed specifications
Synchrotron scatterless slits (♦)	Please contact us for any technical information Discover what our customers say about it!
X-ray alignment camera (♦)	Please contact us for any technical information
Pin Diode detector (♦)	Please contact us for any technical information
Beam stop with integrated Pin Diode	Please contact us for any technical information

X線光学系

Xenocsは、XRDおよびXRFアプリケーションのための幅広い光学系を提案します。

当社は、数々の国際特許と14年あまりに及ぶ研究開発に基づき、業界唯一の単一反射多層膜光学系を開発しています。これらの光学機器では一般に、標準的な多反射光学系に比べて効率が50%以上高くなります。

Xenocsは、自社独自の複製技術により、従来の製造技術では不可能であった比類ない性能を誇る光学設計を実現します。


Mirror type	Figure	Optic efficiency (calculated over mirror length for 70µm source)
Standard Montel mirrors		Eff = 42%
Xenocs FOX 3D mirrors		Eff = 62%

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当社のXRDアプリケーション向け製品

2D-3Dビーム成形X線光学系

高フラックス光学系


Model	Beam size at focus (mm) with 60 µm source	Divergence (mrad)	Typical application
FOX 3D Cu 14-39 (♦)	0.19 x 0.19	5.4	Protein crystallography (♦) Powder diffraction
FOX 3D Cu 12-53	0.3 x 0.3	3	Protein crystallography (Long Unit Cells) Powder diffraction
FOX 3D Mo 10-31	0.13 x 0.13	4	Small molecule crystallography High pressure diffraction
FOX 3D Ag 10-30	0.13 x 0.13	3	Small molecule crystallography High pressure diffraction
FOX 3D Cr 8-30	0.20 x 0.20	6	Protein crystallography (S-SAD) Stress analysis
FOX 1D Cu 12-53	0.3	3	XRD, Powder Diffraction

スモールスポット光学系


Model	Beam size at focus (mm) with 60 µm source	Divergence (mrad)	Typical application
FOX 2D Mo 25-25 (♦)	0.08 x 0.08	5	Small mollecule crystallography High pressure crystallography
FOX 2D Cu 25-25 (♦)	0.08 x 0.08	5.3	Protein crystallography (♦) Micro Diffraction, Reflectometry
FOX 3D Cu 21-21 HC (♦)	0.08 x 0.08	70 x 35	Rapid x-ray Reflectometry (full beam) Scanning x-ray Reflectometry (with slit) Micro-XRF
FOX 3D Cu 28-10	0.04 x 0.04	17	Stress Analysis, Micro-diffraction, Micro-XRF
FOX 3D Cr 30-8	0.04 x 0.04	17	Stress Analysis, Micro-diffraction, Micro-XRF

コリメート光学系


Model	Beam size at focus (mm) with 60 µm source	Divergence (mrad)	Typical application
FOX 2D Cu 12-INF (♦)	1.2 x 1.2	1	Small angle x-ray scattering (♦) High resolution x-ray diffraction (♦) Surface scattering (♦) Thin film analysis (reflectometry stress) (♦) Microdiffraction on synchrotron (♦)
FOX 2D Mo 25-INF (♦)	0.85 x 1.3	0.5	Small angle x-ray scattering High resolution x-ray diffraction Surface scattering
FOX 2D 12-60 L (♦)	0.18 x 0.2	0.5 x 2	High resolution diffraction Small sample analysis
FOX 1D Cu 12-INF (♦)	1.2	0.8	High resolution x-ray diffraction, Powder diffraction, Reflectometry, Small angle x-ray scattering

1Dビーム成形X線光学系

高フラックス光学系


Model	Beam size at focus (mm) with 60 µm source	Divergence (mrad)	Typical application
FOX 1D Cu 12-53	0.3	3	XRD, Powder Diffraction

コリメート光学系


Model	Beam size at focus (mm) with 60 µm source	Divergence (mrad)	Typical application
FOX 1D Cu 12-INF (♦)	1.2	0.8	High resolution x-ray diffraction, Powder diffraction, Reflectometry, Small angle x-ray scattering

XRFアプリケーション用当社製品ラインアップ

Xenocsは、多層膜コーティングおよび表面加工における豊富な経験と先端計測技術に基づき、高性能XRF蛍光分析用光学系を広範囲にわたって開発しています。

自社独自の複製技術を生かして開発された新しい分析器の構造により、検出下限値と測定処理能力が向上します。

XRF光学系


Element of interest	Reference
O, F, Na, Mg, Al, Si, P, S	XAN-1
Nitrogen	XAN-2
Carbon	XAN-3
Boron	XAN-4
Mg, Al , Si	XAN-5
Be	XAN-6

X線ビームデリバリーシステム

GeniX3Dは、画期的なデザインとFOX3DT単一反射光学系を組み合わせた業界でもユニークなソリューションです。

密閉型微焦点X線源は、環境に優しいハウジング、低い所有コスト、高フラックスにより、優れたコストパフォーマンスを実現し、X線分析装置における標準となりつつあります。 Xenocsは、この技術に基づいた高性能X線ビームデリバリーシステム、 GeniX3Dを開発しました。 GeniX3D は、画期的なデザインとFOX3DT単一反射光学系を組み合わせた業界でもユニークなソリューションです。 GeniX3D は、高いビーム強度、解像度、安定性、統合のしやすさ、信頼性といった優れた特長を有しています。 GeniX3D は、さまざまなX線源およびビーム形状でご利用いただけ、幅広いアプリケーションに対応します。独自の技術による優れた性能、人間工学的デザインと信頼性を誇る GeniX3D は、世界の主なX線分析装置OEMから高く評価されています。

動画： GeniX3D、X線ビームデリバリーシステム

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当社の製品

高フラックスソリューション


Model	Beam size at focus (µm)	Divergence (mrad)	Flux (ph/sec)	Typical application
GeniX 3D Cu High Flux *	< 190	6	> 400 x 10⁶	Protein crystallography Micro stress analysis Powder diffraction
GeniX 3D Mo High Flux	< 130	5	> 25 x 10⁶	Small Molecule crystallography High pressure
GeniX 3D Cr High Flux	< 190	6	> 300 x 10⁶	Stress Analysis
GeniX 3D Cu High Convergence *	60	70 x 35	> 400 x 10⁶	Rapid X-ray Reflectometry (full beam) Scanning x-ray reflectometry (with slit) Micro x-ray fluorescence Small spot diffraction on thin film
GeniX 3D Cu Low Convergence *	< 250	3	> 120 x 10⁶	Small Angle X-ray Scattering Protein Crystallography

* 短パルスX線源（V、Cr）にも対応

スモールスポットソリューション


Model	Beam size at focus (µm)	Divergence (mrad)	Flux (ph/sec)	Typical application
GeniX 3D Cr Micro Spot	< 30	17	> 12 x 10⁶	Stress Analysis Micro-XRF Micro-XRD
GeniX 3D Cu Micro Spot	< 30	17	> 18 x 10⁶	Stress Analysis Micro-XRF Micro-XRD
GeniX 3D Mo Micro Spot	< 55	10	> 1.8 x 10⁶	Micro-XRF Micro-XRD
GeniX 3D Cu High Convergence *	60	70 x 35	> 400 x 10⁶	Rapid X-ray Reflectometry (full beam) Scanning x-ray reflectometry (with slit) Micro x-ray fluorescence Small spot diffraction on thin film

* 短パルスX線源（V、Cr）にも対応

Xeuss 3.0仕様



Source	Microfocus sealed tube: Cu, 30W/30µm, point focus. ( DIN EN 12543-5) MetalJet source D2+ (Ga). Motorized Dual source or triple source (Cu/Mo/Cr/Ga).
Optics	Patented 2D single reflection multilayer optics.
Detector	In-vacuum motorized 3-axis detectors for 2D SAXS/WAXS (Q-Xoom): --Pilatus3 R 300K hybrid photon counting detector --Eiger2 R (1M, 4M) hybrid photon counting detectors Optional WAXS detectors for SWAXS: --Pilatus3 R 100K hybrid photon counting detector --Motorized 3-axis Eiger2 R 500K hybrid photon counting detector
Sample chamber	Large vacuum chamber. On-axis sample viewing (parallax free). Attachments for operation of sample in air.
Key features	Clean Beam technology: high flux and low background beamline. Beamstopless measurement: SAXS acquisition continuously without any beamstop. Q-Xoom: Automatic change of measurement configuration over all instrument Q-range with no movement of sample measuring position. Virtual detector mode: surfaces of detection > 200 mm² x 200 mm².
Measurement capability	Nanoparticles size up to 300 nm, 500 nm or 900 nm in diameter depending on Xeuss model. Nanoparticles size up to > 2.5 microns with optional motorized Bonse-Hart module for automatic sequential USAXS/SAXS/WAXS measurements. Scattering measurements up to 2Ɵ>70° with Q-Xoom. Qmax > 49 nm^-1
Sample environment	Standard holders (multi-samples): solids, capillaries, powders. Sample holders for powders and gels. Flowcells for liquids: --- Low noise flowcell --- Capillary flowcell --- Automatic Sample Changer --- BioCube measuring cell with dynamic monitoring (compatible with pipetting robot) Temperature stages: --- Multi-purpose X-Ray Temperature Stage (-30°C to 150°C) --- High temperature sample stage (-150°C to 350°C) --- Extended high temperature sample stage (amb - 1000°C) Tensile Stage (00-600N). Humidity stage (10%-90% from ambient to 60°C). Shear stage Temperature compatible GiSAXS stage Other sample stages available under request
Software	Acquisition software with automatic data reduction in absolute units and live data display. XSACT (X-ray Scattering Analysis and Calculation Tool) for data analysis and interpretation.
General parameters	Models & Footprint : Xeuss 3.0 C (1 m x 3 m), HR (1 m x 5 m), UHR (1 m x 8 m). Maximum power consumption: < 3000 W (single phase power)



Source and optics	Microfocus sealed tube: Cu, 30W/30µm, point focus. ( DIN EN 12543-5) Patented 2D single reflection multilayer optics.
Detector	Dectris Pilatus 3 hybrid photon counting detectors. Two fixed detectors for continuously and simultaneously. SAXS and WAXS acquisition up to 2θ=60°.
Beam Path	Windowless beam path entirely under vacuum from beam delivery system to detector sensor
Key features	Clean Beam technology: high flux and low background beamline. Beamstopless measurement: SAXS acquisition continuously without any beamstop. Virtual detector mode: > 200° azimuth coverage with rotation of sample.
Measurement capability	Nanoparticles size up to 250 nm in diameter.
Sample environment	Standard holders: solids, capillaries, powders. Sample holders for powders and gels. Flow cells for liquids: --- Low noise flow cell --- Capillary flow cell Automatic Sample Changer Temperature stages: --- Multi-purpose X-Ray Temperature Stage (-20°C to 150°C) --- High temperature sample stage (-150°C to 350°C) --- Extended high temperature sample stage (amb - 700°C) Tensile Stage (0-200N). GiSAXS stage compatible with high temperature sample stage. Custom stages on request.
Software	Acquisition software with automatic data reduction in absolute units and live data display. XSACT (X-ray Scattering Analysis and Calculation Tool) for data analysis and interpretation.
General parameters	Fooprint: < 1x1 m². Weight: ~ 520 kg. Maximum power consumption: < 2000 W (single phase power). Self-contained: no external fluids required.
Warranty	Two years warranty and three years on X ray source.

説明	液体サンプル注入に用いる、フィードスルー装備の真空対応低散乱フローセル。多目的温度ステージに対応。
機器	Nano-inXider（ナノインサイダー）、Xeuss

説明	液体サンプル注入に用いる、フィードスルー装備の真空対応キャピラリーフローセル。
機器	Nano-inXider（ナノインサイダー）、Xeuss

説明	UV-Vis（紫外～可視分光）のオプション付き。 SEC-SAXSおよびBioXolver（バイオソルバー）のピペット送液ロボットに対応。温度制御可能。
機器	BioXolver（バイオソルバー）、Xeuss

説明	温度制御のオプションが付いた、2x 96 (または384) のウェルトレイ。サンプルのチューブレス処理。使い捨てピペットチップにより相互汚染なし。ソフトウェアを完全に統合。
機器	BioXolver（バイオソルバー）、Xeuss

説明	簡単に位置決めできるよう磁石に取り付けられた8セルのラック。
機器	Xeuss、Nano-inXider（ナノインサイダー）

説明	複数のサンプルの温度を同時に制御するための水冷ペルチェ式温度ステージ。
範囲	-30 °C～150 °C。液体サンプルの場合は 4 °C～50 °C。
真空対応	対応する
対応するサンプル	個体（16ポジション）、キャピラリー（9ポジション）、粉末（16ポジション）用のマルチサンプルホルダーが付属。低ノイズフローセルの熱化に対応。
機器	Nano-inXider（ナノインサイダー）、Xeuss

説明	LinkamHFSX350を基盤にした温度ステージ。周囲温度以下に冷却するために液体窒素を使用。
範囲	動作温度の範囲：-150 °C ～ 350 °C
真空対応	対応する
対応するサンプル	キャピラリーの個体、粉末、ゲル、液体。 GISAXSステージに対応。
機器	Nano-inXider（ナノインサイダー）、Xeuss

説明	Linkam TS1000を基盤にした高温ステージ。
範囲	動作温度の範囲：周囲温度～1000 °C。
真空対応	対応する
対応するサンプル	固体
機器	Nano-inXider（ナノインサイダー）、Xeuss

説明	Linkam TST250Vを基盤にした引張ステージ。
範囲	温度：-150 °C ～ +250 °C。力： 0.01Nの分解能で0〜200 N、または0.001Nの分解能で0〜20N。
真空対応	対応する
対応するサンプル	金属の薄片
機器	Nano-inXider（ナノインサイダー）、Xeuss

説明	XeussプラットフォームにLinkamせん断セルCSS450が組み込まれています。制御されたせん断（固定または振動）および温度下で複雑な液体を「その場」で測定するためのX線透過ウィンドウが装備されています。
範囲	温度の範囲：周囲温度～350°C（オプションのCryo CSS450では -50 ～ 350°C、液体窒素が付属）。
真空対応	対応しない
対応するサンプル	ポリマー、懸濁液（コロイド、エマルジョン、ペースト）
機器	Xeuss

サンプルホルダー サンプルハンドリング

各システムで提供される標準ステージに加えて、SAXS/WAXS機器用のさまざまな専用サンプルホルダーを提供しています。

低ノイズフローセル

注： 上の写真は、Xeuss用のサンプルホルダーです。

キャピラリーフローセル

注： 上の写真は、Xeuss用のサンプルホルダーです。

液体用オートサンプラー

BioCUBE（バイオキューブ）

注： 上の写真は、BioXolver（バイオソルバー）で使用されているBioCube（バイオキューブ）です。

BioXolver（バイオソルバー）のピペット送液ロボット

注： 上の写真は、BioXolver（バイオソルバー）で使用されているBioXolverのピペット送液ロボットです。

ゲルおよび粉末用カプセルホルダー

注： 上の写真は、Nano-inXider（ナノインサイダー）用のサンプルホルダーです。

GISAXS用サンプルホルダー

注： 上の写真は、Xeuss用の標準サンプルホルダーです。

他に必要なものは？

この他のサンプルホルダーもご利用いただけます。 お気軽にお問い合わせください。特定のニーズについてのご相談も喜んでお受けいたします。

サンプル環境

Xenocsは、真空中でのサンプル研究のための幅広いサンプル環境を提供します。 これらは、当社のSAXS/WAXS機器のアクセサリーとしてのみご購入いただけます。

温度

多目的温度ステージ

高温サンプルステージ

超高温ステージ

温度制御付きの再充填可能なマルチキャピラリーホルダー

引張、せん断、湿度

引張ステージ

せん断ステージ

湿度ステージ

SAXS WAXS サンプルステージ

SAXS WAXS サンプルステージ – Xenocs社製機器での幅広いサンプルとステージ

Useful links

X線ビームアクセサリー

Xenocs では、高品質の光学部品およびビームデリバリーシステムに加え、装置の性能を最適化するためのさまざまなアクセサリーを提供しています。

X線光学系

Xenocsは、XRDおよびXRFアプリケーションのための幅広い光学系を提案します。

2D-3Dビーム成形X線光学系

高フラックス光学系

スモールスポット光学系

コリメート光学系

1Dビーム成形X線光学系

高フラックス光学系

コリメート光学系

XRF光学系

X線ビームデリバリーシステム

GeniX3Dは、画期的なデザインとFOX3DT単一反射光学系を組み合わせた業界でもユニークなソリューションです。

高フラックスソリューション

スモールスポットソリューション

Xeuss 3.0仕様

Nano-inXider（ナノインサイダー）の仕様

サンプルホルダーサンプルハンドリング

注：上の写真は、Xeuss用のサンプルホルダーです。

注：上の写真は、Xeuss用のサンプルホルダーです。

注：上の写真は、BioXolver（バイオソルバー）で使用されているBioCube（バイオキューブ）です。

注：上の写真は、BioXolver（バイオソルバー）で使用されているBioXolverのピペット送液ロボットです。

注：上の写真は、Nano-inXider（ナノインサイダー）用のサンプルホルダーです。

注：上の写真は、Xeuss用の標準サンプルホルダーです。

この他のサンプルホルダーもご利用いただけます。お気軽にお問い合わせください。特定のニーズについてのご相談も喜んでお受けいたします。

Xenocsは、真空中でのサンプル研究のための幅広いサンプル環境を提供します。これらは、当社のSAXS/WAXS機器のアクセサリーとしてのみご購入いただけます。