サンプルホルダー サンプルハンドリング

低ノイズフローセル
液体サンプル用。特に希薄サンプルや低散乱サンプルに最適です。
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説明 | 液体サンプル注入に用いる、フィードスルー装備の真空対応低散乱フローセル。 多目的温度ステージに対応。 |
機器 | Nano-inXider(ナノインサイダー)、Xeuss |
注: 上の写真は、Xeuss用のサンプルホルダーです。

キャピラリーフローセル
液体サンプル用。
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説明 | 液体サンプル注入に用いる、フィードスルー装備の真空対応キャピラリーフローセル。 |
機器 | Nano-inXider(ナノインサイダー)、Xeuss |
注: 上の写真は、Xeuss用のサンプルホルダーです。

液体用オートサンプラー
フローセル内への高精度な液体サンプル注入を自動で行います(チューブ接続を使用)。
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説明 | 温度制御(4~40°C)可能なサンプルチェンジャーで、2 x 48 または 2 x 96 バイアルの処理能力があります。 低ノイズフローセルおよびキャピラリーフローセルと組み合わせて使用できます。 |
機器 | Nano-inXider(ナノインサイダー)、Xeuss |

BioCUBE(バイオキューブ)
少量のサンプルの溶液散乱用測定セル。マシンビジョンの支援によるサンプルの位置決めが可能です。
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説明 | UV-Vis(紫外~可視分光)のオプション付き。 SEC-SAXSおよびBioXolver(バイオソルバー)のピペット送液ロボットに対応。 温度制御可能。 |
機器 | BioXolver(バイオソルバー)、Xeuss |
注: 上の写真は、BioXolver(バイオソルバー)で使用されているBioCube(バイオキューブ)です。

BioXolver(バイオソルバー)のピペット送液ロボット
BioCube(バイオキューブ)と共に使用します。
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説明 | 温度制御のオプションが付いた、2x 96 (または384) のウェルトレイ。 サンプルのチューブレス処理。 使い捨てピペットチップにより相互汚染なし。 ソフトウェアを完全に統合。 |
機器 | BioXolver(バイオソルバー)、Xeuss |
注: 上の写真は、BioXolver(バイオソルバー)で使用されているBioXolverのピペット送液ロボットです。

ゲルおよび粉末用カプセルホルダー
粉末およびゲル用ですが、液体にも使用できます。
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説明 | 簡単に位置決めできるよう磁石に取り付けられた8セルのラック。 |
機器 | Xeuss、Nano-inXider(ナノインサイダー) |
注: 上の写真は、Nano-inXider(ナノインサイダー)用のサンプルホルダーです。

GISAXS用サンプルホルダー
ナノ構造の表面や薄い膜の研究に使用します。
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説明 | 斜入射測定用に設計されたサンプルステージ。最適化されたサンプル調整のために複数の自由度を提供します。 高温ステージに対応。 |
機器 | Nano-inXider(ナノインサイダー)、Xeuss |
注: 上の写真は、Xeuss用の標準サンプルホルダーです。
サンプル環境
Xenocsは、真空中でのサンプル研究のための幅広いサンプル環境を提供します。 これらは、当社のSAXS/WAXS機器のアクセサリーとしてのみご購入いただけます。
温度

多目的温度ステージ
交換可能なマルチサンプルホルダーの温度制御用。
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説明 | 複数のサンプルの温度を同時に制御するための水冷ペルチェ式温度ステージ。 |
範囲 | -30 °C~150 °C。液体サンプルの場合は 4 °C~50 °C。 |
真空対応 | 対応する |
対応するサンプル | 個体(16ポジション)、キャピラリー(9ポジション)、粉末(16ポジション)用のマルチサンプルホルダーが付属。 低ノイズフローセルの熱化に対応。 |
機器 | Nano-inXider(ナノインサイダー)、Xeuss |

高温サンプルステージ
温度依存性の研究用。
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説明 | LinkamHFSX350を基盤にした温度ステージ。 周囲温度以下に冷却するために液体窒素を使用。 |
範囲 | 動作温度の範囲:-150 °C ~ 350 °C |
真空対応 | 対応する |
対応するサンプル | キャピラリーの個体、粉末、ゲル、 液体。 GISAXSステージに対応。 |
機器 | Nano-inXider(ナノインサイダー)、Xeuss |

超高温ステージ
固体の温度依存性の研究用。最高1000°Cまで。
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説明 | Linkam TS1000を基盤にした高温ステージ。 |
範囲 | 動作温度の範囲:周囲温度~1000 °C。 |
真空対応 | 対応する |
対応するサンプル | 固体 |
機器 | Nano-inXider(ナノインサイダー)、Xeuss |

温度制御付きの再充填可能なマルチキャピラリーホルダー
正確なバックグラウンド除去が必要なサンプル測定用。
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説明 | 再充填可能なキャピラリーを最大6つまで設置できる温度制御されたステージ。 キャピラリーは再充填可能なため、サンプル測定と同じキャピラリーを使用してバックグラウンド測定ができます。 |
範囲 | 動作温度の範囲:-10°C ~ 80°C。水性サンプルの場合は 5°C ~ 70°C。 |
真空対応 | 対応する |
対応するサンプル | 液体、ゲル、粉末 |
機器 | Nano-inXider(ナノインサイダー)、Xeuss |
引張、せん断、湿度

引張ステージ
引張応力および温度依存性の研究用。
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説明 | Linkam TST250Vを基盤にした引張ステージ。 |
範囲 | 温度:-150 °C ~ +250 °C。力: 0.01Nの分解能で0〜200 N、または0.001Nの分解能で0〜20N。 |
真空対応 | 対応する |
対応するサンプル | 金属の薄片 |
機器 | Nano-inXider(ナノインサイダー)、Xeuss |

せん断ステージ
制御されたせん断下での複雑な流体の構造研究用。
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説明 | XeussプラットフォームにLinkamせん断セルCSS450が組み込まれています。 制御されたせん断(固定または振動)および温度下で複雑な液体を「その場」で測定するためのX線透過ウィンドウが装備されています。 |
範囲 | 温度の範囲:周囲温度~350°C(オプションのCryo CSS450では -50 ~ 350°C、液体窒素が付属)。 |
真空対応 | 対応しない |
対応するサンプル | ポリマー、懸濁液(コロイド、エマルジョン、ペースト) |
機器 | Xeuss |

湿度ステージ
制御された温度/湿度の条件下でのサンプルのSAXS測定用。
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説明 | LinkamRH95湿度コントローラーとLinkam高温ステージまたはLinkam引張を基盤にした、統合された相対湿度ステージシステム。 | |
範囲 |
|
|
真空対応 | 対応しない | |
対応するサンプル | 固体 | |
機器 | Xeuss |