Xeuss 3.0
次世代ビームライン
ラボ用
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卓越した柔軟性
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究極のパフォーマンス
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サンプル用に十分なスペース
小角X線散乱装置 Xeuss 3.0は、実績のあるXeussシリーズの最新世代の機器で、すでに世界中の主要な研究施設において導入されています。 Xenocsの最新のイノベーションがすべて組み込まれており、機能、柔軟性、使いやすさが一段と向上しました。
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「Xeussは私たちの研究を大きく後押ししてくれました。 放射光実験と組み合わせてよく使っています。 放射光施設に行く前に、この機器を使用して最適なサンプルを選択し、サンプル準備プロセスを改善することで予備分析を実行します。 その後、シェフィールドに戻ったら、Xeussを使用してデータを改良した後、公開してさらに研究を推進します。」
サイズ、構造、形状、配向性...
透過または斜入射モードでSAXS / WAXSおよびUSAXS技術を使用して、ソフトマターおよびナノ材料のナノ構造の特性を評価します。
–直径が数ナノメートルから350nm以上の範囲の粒子サイズ分布 - 半結晶性ポリマーの結晶化速度とラメラ構造 - 溶液中の界面活性剤またはタンパク質のサイズと形状の分析 - 原子またはナノスケール、バルク相または表面でのナノ材料の組織化と配向 - 合金の相分離研究 - 「その場」のナノ構造転移の研究
主な特長と機能
特長と機能についての詳細
卓越した柔軟性
フルリモート操作機能と、独自の長さスケールへのアクセスを備えた構造ツールを、広範囲のユーザーコミュニティに提供します。
高度なナノ材料の開発と設計には、幅広い範囲の長さスケールにおよぶ特性評価が必要となります。Xeuss 3.0は、全自動化された設定変更を通じて、q（波数ベクトル）で最大5桁の測定機能を提供します。したがって、トレーニンングを受けたユーザーであれば、特定のサンプルまたはサンプルのバッチに対して、すべての測定範囲にわたってシステムをリモートで操作できます。
測定設定の自動変更には以下のものが含まれます。
- 検出器の自動駆動による測定分解能のQ-Xoom変更
- Bonse-Hart USAXSモジュールを使用した、SAXS / USAXSの連続的な測定
- 最大3つのＸ線源の、線源の切替
- 「その場」SWAXS研究における、平衡状態以外の場合の可動WAXS検出器
- InXight X線イメージングモジュール
- 補助Ｘ線集光ビーム
機能を詳しく知る
Q-Xoom真空移動検出器
Q-Xoom – コンピューター制御により検出器が自動で移動します
- SAXSおよびWAXSのすべての構成において、真空中での検出器移動が1〜4 m（バージョンによって異なります）の範囲で、独自の性能を発揮
- 200x200mm²以上の検出面用の仮想検出器
- 実験中のデータのリアルタイム表示（2Dおよび1D）による、フルリモート操作：ダウンタイムの削減、実験の最適化
- サンプルチャンバーにサンプルを配置します
- クリーンビームのウィンドウレス検出器を使用して、真空中で、またはX-Conesを使用して大気中で測定
電動Bonse-Hart USAXSモジュール
ナノスケール情報とともに、4.5ミクロンまでのプローブの長さを測定します。
- USAXS測定の自動切換えにより、同じサンプルの同じ測定位置ででUSAXSおよびSAXSの取得が可能です。
- 高品質のSAXSおよびUSAXSデータのマージ
- SAXS/WAXSの手動切替や機器の設定変更は不要
- USAXSおよびSAXS / WAXS入射ビームは同一直線上にあり、サンプルを移動する必要はありません
マルチ・エネルギーX線源
様々なサンプルタイプ（吸収、蛍光、特徴的な寸法）に合わせて実験を最適化します
- X線源交換は自動調整の電動式
- 最大3つの線源モジュール（Cu、Mo、Cr） Ga メタルジェット光源を搭載可能
- 高精度の切り替えプロセスにより、異なる線源による同一サンプルの連続測定ができます
InXight X線イメージングモジュール
Xeuss 3.0用のInXight X線イメージングモジュールは、資料のX線散乱情報とX線透過画像を提供します。X線イメージングとX線散乱測定の自動切り替えにより、Åからmmまでの構造情報を得ることが出来ます。
Xeuss 3.0用X線イメージングモジュールInXightを使用して得られる情報
- 試料のX線透過イメージを瞬時に取得し、そこからSAXS/WAXSまたはUSAXSの測定箇所を選びます
- 局所的なX線散乱と微細構造の相関関係から、複雑なサンプルや製品の全体像を把握することが可能
- 長さスケールを拡張したオペランドダイナミクスの観察
補助Ｘ線モジュール
補助X線源は、Xeuss 3.0用の追加X線源オプションで、試料に焦点を合わせた単色ビームを提供します。一般的なSAXS/WAXS光源と比較して光子密度が1桁増加しており、小スポットX線散乱アプリケーションに理想的です。補助Ｘ線源はVersaXtageに搭載されており、モーター駆動で線源構成を素早く変更することができます。
小スポット実験における補助Ｘ線の利点とアプリケーションは以下の通りです
- GIWAXS実験およびマッピングにおけるデータ品質の向上または取得時間の短縮
- WAXSおよびSAXS測定の実行と、50 nmの粒子径の測定が可能
- 数分未満の時間分解能を持つ経時的なオペランド観察が可能
究極のパフォーマンス
Xeuss 3.0は、あらゆるタイプのサンプルに対して、可能な限り最高のデータ品質を提供できるように、測定条件の幅広い柔軟性を有しています。
特に、以下のような機能により、ユーザーは実験や結果を最適化できます。
- 低バックグラウンドカメラに搭載された、高速移動に適した高いフラックス設定
- 分解能と信号対雑音比を最適化する、WAXSから長距離SAXSまで移動可能な、広い検出器面積
- 大きな特性寸法（300 nm以上）を測定できる長距離SAXS設定
- 大きな構造（4 µm以上）の 特性評価を可能にするオプションのUSAXSモジュール
検出器の移動を示すための、透明なQ-XoomをXeuss 3.0でみることができます。
機能を詳しく知る
ビームストップなしのデータ取得
ビームストップなしの連続的なSAXS取得により、高ダイナミックレンジデータが提供されます。 ビームストップエッジまたは検出器ウィンドウからの寄生散乱がないため、低q値でノイズのない散乱検出が可能です。 直接ビームは、正確な透過率測定のために取得中にサンプル散乱プロファイルと同時に記録され、正確な絶対強度の正規化を取得するために使用されます。 さらに、このように測定された直接ビームプロファイルは、結果の精度を向上させるためにデータ解析（XSACT）に統合されます。
クリーンビーム技術
Xeuss 3.0は、標準タイプとして、メンテナンスの少ないマイクロフォーカス・ビーム・デリバリーシステムを統合して、これまでは高出力な回転対陰極でのみ可能であった、高フラックスレベルを提供します。 動力学的研究や希釈サンプルの形状分析など、高度な実験をラボで実行できるようになりました。
さらに、Xenocs 社X線ビーム・デリバリーシステムと電動散乱レスコリメーションを組み合わせることで、高解像度（低Δqビーム）を実現します。これは、大きな特性寸法の研究や正確なメソフェーズ分析の実行に不可欠です。 高分解能とともに高い有用フラックスは、以下の組み合わせによって実現されます。
- 高輝度、長寿命マイクロフォーカス線源
- 非常に高い立体角を備えた、特許取得済みの単一反射多層膜光学系
- サンプルと検出器上の2D制御ビームサイズ
Xeuss 3.0は、希釈サンプルや低コントラストサンプルを含め、最高品質のX線散乱測定を保証するために、過去10年以上の開発によって得られた高フラックスと低ノイズ技術を組み合わせています。 主な搭載機能は次のとおりです。
- 光学機器から検出器センサーまで完全な真空システム
- 第3世代の散乱レスコリメーション（2008年にXenocsによって最初に市場に導入されました）
- 真空ウィンドウレス検出器
- ハイブリッド・ピクセル・フォトン・カウンティング検出器
- 周囲の寄生散乱の影響を低減する、独自の宇宙放射線の自動削減
高速な動力学的測定を必要とするアプリケーションの場合、Xeuss 3.0は、メタルジェット光源を搭載できます。
検出面が大きいQ-Xoom
Q-Xoomは、フルレンジ・コンピューター制御による検出器移動機能を備えており、サンプルから検出器までの距離を自動的に調整して、実験を最適化するために測定の柔軟性を最大限に高めます。 仮想検出器は、自動データ再構築により、検出器のサイズに関係なく、サンプルから検出器までの距離で200 mm2 x 200mm2を超える収集面を提供する測定機能を向上させます。 検出面が大きいと、異方性サンプルの場合に方位角範囲を最適化するのに役立ちます。また、検出器のオフセットによってサンプルから検出器までの距離が長い場合に、より小さな長さスケール（より大きな波数ベクトル）を特徴付けることにより、高解像度の測定設定からより効果的な結果が得られます。
サンプル用に十分なスペース
Xeuss 3.0は、大容量チャンバーと測定中の静止サンプルにより、現在および将来のニーズを十分サポートできるX線散乱プラットフォームです。
先端材料研究と特性評価では、特定のまたはカスタマイズされたサンプル環境を大気中または真空中で統合する必要がありました。
Xeuss 3.0は、最先端のビームラインコンセプトのおかげで、このような新しいプロジェクトに完全に対応します。
以下の特長を提供します。
- 測定中の静止サンプル機能を備えた大型真空チャンバー（連続的な軸上サンプル表示、カスタマイズされたサンプル環境のスマートな統合）
- サンプルのマッピングとバッチ測定のための長い移動を伴うサンプルステージ
- ホルダー識別を備えた、幅広い標準サンプル環境
