Exploring the very small

At Xenocs, we help our customers develop new materials & products by providing them with innovative products and services for the characterization of nano-materials.

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ナノスケールへのアクセスを提供します

ニュース

Focused beam for residual stress and texture analysis

Marie | Application notes, News | No Comments

Residual stress analysis and texture measurements …

SAS 2022

Marie | Events, News, カテゴリーなし | No Comments

11-16 September, 2022. Xenocs is pleased to attend…

Xenocs Announces the Appointment of Two New Board Members

Marie | News | No Comments

Xenocs announced today the appointment of Pieter d…

お客様の声

SAXS instrument Helmholtz-Zentrum Hereon

Helmholtz-Zentrum Hereon uses the Xeuss 3.0 SAXS/WAXS instrument to boost research

Marie | Testimonials, カテゴリーなし | No Comments

"Even after more than a year, we still did not exp…

How Sapienza University of Rome accelerates research with the Xeuss SAXS/WAXS instrument from Xenocs

Marie | Testimonials | No Comments

"Having a Xeuss in our lab has made it possible to…

Nano-inXider, “a wonderful total solution for in-house SAXS experiment”

Marie | Testimonials | No Comments

"Nano-inXider supports all experiments for pursuin…

お客様事例

1100

<strong>過去5年間のお客様の技術論文の数</strong>

100

<strong>2013年以降に設置されたX線散乱装置の数</strong>

Xenocs社は、ナノスケールでの特性評価のための製品とサービスを提供することで、先端材料の研究、開発、製造においてお客様を支援しています。当社のソリューションは、小角X線散乱および広角X線散乱（SAXS/WAXS）を基盤としています。

SAXS/WAXS技術の詳細については、SAXSのページをご覧ください。

アプリケーションのメニューからは、最新のSAXSが、ポリマー研究、構造生物学、ナノ粒子とコロイド、再生可能エネルギー、食品科学、化粧品と消費者ケア、石油とガス、各種の無機材料など様々な研究分野で用いられていることを示す多くの情報を見ることができます。

特性評価のページでは、 X線散乱を使用してラボで実行できる測定の種類をいくつか例に挙げて紹介しています。

SAXS/WAXS機器の当社の製品ラインナップの詳細については、製品ページをご覧ください。

知識ベースのメニューからは、アプリケーションノートと、当社のラボ用機器に関連するお客様の技術論文の広範なリストにアクセスすることができます。

スタートポイントをお選びください：

SAXSとは

アプリケーション

製品

特性評価

SAXSで可能なことや当社のソリューションについてご質問がございましたら、以下までご連絡ください：[email protected]。

SAXS WAXS

SAXS WAXS – Xenocsが、ラボでのナノスケールへのアクセスを提供

Xenocsが、ラボでのナノスケールへのアクセスを提供。ナノ構造に関するデータを迅速に取得し、材料特性を最適化します。

X線ビームデリバリーシステム

GeniX3Dは、画期的なデザインとFOX3DT単一反射光学系を組み合わせた業界でもユニークなソリューションです。

密閉型微焦点X線源は、環境に優しいハウジング、低い所有コスト、高フラックスにより、優れたコストパフォーマンスを実現し、X線分析装置における標準となりつつあります。 Xenocsは、この技術に基づいた高性能X線ビームデリバリーシステム、 GeniX3Dを開発しました。 GeniX3D は、画期的なデザインとFOX3DT単一反射光学系を組み合わせた業界でもユニークなソリューションです。 GeniX3D は、高いビーム強度、解像度、安定性、統合のしやすさ、信頼性といった優れた特長を有しています。 GeniX3D は、さまざまなX線源およびビーム形状でご利用いただけ、幅広いアプリケーションに対応します。独自の技術による優れた性能、人間工学的デザインと信頼性を誇る GeniX3D は、世界の主なX線分析装置OEMから高く評価されています。

動画： GeniX3D、X線ビームデリバリーシステム

お問い合わせ

当社の製品

高フラックスソリューション


Model	Beam size at focus (µm)	Divergence (mrad)	Flux (ph/sec)	Typical application
GeniX 3D Cu High Flux *	< 190	6	> 400 x 10⁶	Protein crystallography Micro stress analysis Powder diffraction
GeniX 3D Mo High Flux	< 130	5	> 25 x 10⁶	Small Molecule crystallography High pressure
GeniX 3D Cr High Flux	< 190	6	> 300 x 10⁶	Stress Analysis
GeniX 3D Cu High Convergence *	60	70 x 35	> 400 x 10⁶	Rapid X-ray Reflectometry (full beam) Scanning x-ray reflectometry (with slit) Micro x-ray fluorescence Small spot diffraction on thin film
GeniX 3D Cu Low Convergence *	< 250	3	> 120 x 10⁶	Small Angle X-ray Scattering Protein Crystallography

* 短パルスX線源（V、Cr）にも対応

スモールスポットソリューション


Model	Beam size at focus (µm)	Divergence (mrad)	Flux (ph/sec)	Typical application
GeniX 3D Cr Micro Spot	< 30	17	> 12 x 10⁶	Stress Analysis Micro-XRF Micro-XRD
GeniX 3D Cu Micro Spot	< 30	17	> 18 x 10⁶	Stress Analysis Micro-XRF Micro-XRD
GeniX 3D Mo Micro Spot	< 55	10	> 1.8 x 10⁶	Micro-XRF Micro-XRD
GeniX 3D Cu High Convergence *	60	70 x 35	> 400 x 10⁶	Rapid X-ray Reflectometry (full beam) Scanning x-ray reflectometry (with slit) Micro x-ray fluorescence Small spot diffraction on thin film

* 短パルスX線源（V、Cr）にも対応

X線ビームアクセサリー

Xenocs では、高品質の光学部品およびビームデリバリーシステムに加え、装置の性能を最適化するためのさまざまなアクセサリーを提供しています。

当社のアクセサリー製品をご覧ください。また、お客様のプロジェクトや特定のニーズに関してご相談を承ります。お気軽にお問い合わせください。


Model	Detailed specifications
Synchrotron scatterless slits (♦)	Please contact us for any technical information Discover what our customers say about it!
X-ray alignment camera (♦)	Please contact us for any technical information
Pin Diode detector (♦)	Please contact us for any technical information
Beam stop with integrated Pin Diode	Please contact us for any technical information

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お見積依頼

X線光学系

Xenocsは、XRDおよびXRFアプリケーションのための幅広い光学系を提案します。

当社は、数々の国際特許と14年あまりに及ぶ研究開発に基づき、業界唯一の単一反射多層膜光学系を開発しています。これらの光学機器では一般に、標準的な多反射光学系に比べて効率が50%以上高くなります。

Xenocsは、自社独自の複製技術により、従来の製造技術では不可能であった比類ない性能を誇る光学設計を実現します。


Mirror type	Figure	Optic efficiency (calculated over mirror length for 70µm source)
Standard Montel mirrors		Eff = 42%
Xenocs FOX 3D mirrors		Eff = 62%

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当社のXRDアプリケーション向け製品

2D-3Dビーム成形X線光学系

高フラックス光学系


Model	Beam size at focus (mm) with 60 µm source	Divergence (mrad)	Typical application
FOX 3D Cu 14-39 (♦)	0.19 x 0.19	5.4	Protein crystallography (♦) Powder diffraction
FOX 3D Cu 12-53	0.3 x 0.3	3	Protein crystallography (Long Unit Cells) Powder diffraction
FOX 3D Mo 10-31	0.13 x 0.13	4	Small molecule crystallography High pressure diffraction
FOX 3D Ag 10-30	0.13 x 0.13	3	Small molecule crystallography High pressure diffraction
FOX 3D Cr 8-30	0.20 x 0.20	6	Protein crystallography (S-SAD) Stress analysis
FOX 1D Cu 12-53	0.3	3	XRD, Powder Diffraction

スモールスポット光学系


Model	Beam size at focus (mm) with 60 µm source	Divergence (mrad)	Typical application
FOX 2D Mo 25-25 (♦)	0.08 x 0.08	5	Small mollecule crystallography High pressure crystallography
FOX 2D Cu 25-25 (♦)	0.08 x 0.08	5.3	Protein crystallography (♦) Micro Diffraction, Reflectometry
FOX 3D Cu 21-21 HC (♦)	0.08 x 0.08	70 x 35	Rapid x-ray Reflectometry (full beam) Scanning x-ray Reflectometry (with slit) Micro-XRF
FOX 3D Cu 28-10	0.04 x 0.04	17	Stress Analysis, Micro-diffraction, Micro-XRF
FOX 3D Cr 30-8	0.04 x 0.04	17	Stress Analysis, Micro-diffraction, Micro-XRF

コリメート光学系


Model	Beam size at focus (mm) with 60 µm source	Divergence (mrad)	Typical application
FOX 2D Cu 12-INF (♦)	1.2 x 1.2	1	Small angle x-ray scattering (♦) High resolution x-ray diffraction (♦) Surface scattering (♦) Thin film analysis (reflectometry stress) (♦) Microdiffraction on synchrotron (♦)
FOX 2D Mo 25-INF (♦)	0.85 x 1.3	0.5	Small angle x-ray scattering High resolution x-ray diffraction Surface scattering
FOX 2D 12-60 L (♦)	0.18 x 0.2	0.5 x 2	High resolution diffraction Small sample analysis
FOX 1D Cu 12-INF (♦)	1.2	0.8	High resolution x-ray diffraction, Powder diffraction, Reflectometry, Small angle x-ray scattering

1Dビーム成形X線光学系

高フラックス光学系


Model	Beam size at focus (mm) with 60 µm source	Divergence (mrad)	Typical application
FOX 1D Cu 12-53	0.3	3	XRD, Powder Diffraction

コリメート光学系


Model	Beam size at focus (mm) with 60 µm source	Divergence (mrad)	Typical application
FOX 1D Cu 12-INF (♦)	1.2	0.8	High resolution x-ray diffraction, Powder diffraction, Reflectometry, Small angle x-ray scattering

XRFアプリケーション用当社製品ラインアップ

Xenocsは、多層膜コーティングおよび表面加工における豊富な経験と先端計測技術に基づき、高性能XRF蛍光分析用光学系を広範囲にわたって開発しています。

自社独自の複製技術を生かして開発された新しい分析器の構造により、検出下限値と測定処理能力が向上します。

XRF光学系


Element of interest	Reference
O, F, Na, Mg, Al, Si, P, S	XAN-1
Nitrogen	XAN-2
Carbon	XAN-3
Boron	XAN-4
Mg, Al , Si	XAN-5
Be	XAN-6

Xeuss 3.0仕様



Source	Microfocus sealed tube: Cu, 30W/30µm, point focus. ( DIN EN 12543-5) MetalJet source D2+ (Ga). Motorized Dual source or triple source (Cu/Mo/Cr/Ga).
Optics	Patented 2D single reflection multilayer optics.
Detector	In-vacuum motorized 3-axis detectors for 2D SAXS/WAXS (Q-Xoom): --Pilatus3 R 300K hybrid photon counting detector --Eiger2 R (1M, 4M) hybrid photon counting detectors Optional WAXS detectors for SWAXS: --Pilatus3 R 100K hybrid photon counting detector --Motorized 3-axis Eiger2 R 500K hybrid photon counting detector
Sample chamber	Large vacuum chamber. On-axis sample viewing (parallax free). Attachments for operation of sample in air.
Key features	Clean Beam technology: high flux and low background beamline. Beamstopless measurement: SAXS acquisition continuously without any beamstop. Q-Xoom: Automatic change of measurement configuration over all instrument Q-range with no movement of sample measuring position. Virtual detector mode: surfaces of detection > 200 mm² x 200 mm².
Measurement capability	Nanoparticles size up to 300 nm or 500 nm in diameter depending on Xeuss model. Nanoparticles size up to > 4.5 microns with optional motorized Bonse-Hart module for automatic sequential USAXS/SAXS measurements. Scattering measurements up to 2Ɵ>70° with Q-Xoom. Qmax > 49 nm^-1
Sample environment	Standard holders (multi-samples): solids, capillaries, powders. Sample holders for powders and gels. Flowcells for liquids: --- Low noise flowcell --- Capillary flowcell --- Automatic Sample Changer Temperature stages: --- Multi-purpose X-Ray Temperature Stage (-30°C to 150°C) --- High temperature sample stage (-150°C to 350°C) --- Extended high temperature sample stage (amb - 1000°C) Tensile Stage (0-200N). Humidity stage (10%-90% from ambient to 60°C). Shear stage Temperature compatible GiSAXS stage Other sample stages available under request
Software	Acquisition software with automatic data reduction in absolute units and live data display. XSACT (X-ray Scattering Analysis and Calculation Tool) for data analysis and interpretation.
General parameters	Models & Footprint : Xeuss 3.0 C (1 m x 3 m), HR (1 m x 5 m), UHR (1 m x 8 m). Maximum power consumption: < 3000 W (single phase power)

仕様詳細についてのお問い合わせはこちら

Nano-inXider（ナノインサイダー）の仕様



Source and optics	Microfocus sealed tube: Cu, 30W/30µm, point focus. ( DIN EN 12543-5) Patented 2D single reflection multilayer optics.
Detector	Dectris Pilatus 3 hybrid photon counting detectors. Two fixed detectors for continuously and simultaneously. SAXS and WAXS acquisition up to 2θ=60°.
Beam Path	Windowless beam path entirely under vacuum from beam delivery system to detector sensor
Key features	Clean Beam technology: high flux and low background beamline. Beamstopless measurement: SAXS acquisition continuously without any beamstop. Virtual detector mode: > 200° azimuth coverage with rotation of sample.
Measurement capability	Nanoparticles size up to 250 nm in diameter.
Sample environment	Standard holders: solids, capillaries, powders. Sample holders for powders and gels. Flow cells for liquids: --- Low noise flow cell --- Capillary flow cell Automatic Sample Changer Temperature stages: --- Multi-purpose X-Ray Temperature Stage (-20°C to 150°C) --- High temperature sample stage (-150°C to 350°C) --- Extended high temperature sample stage (amb - 700°C) Tensile Stage (0-200N). GiSAXS stage compatible with high temperature sample stage. Custom stages on request.
Software	Acquisition software with automatic data reduction in absolute units and live data display. XSACT (X-ray Scattering Analysis and Calculation Tool) for data analysis and interpretation.
General parameters	Fooprint: < 1x1 m². Weight: ~ 520 kg. Maximum power consumption: < 2000 W (single phase power). Self-contained: no external fluids required.
Warranty	Two years warranty and three years on X ray source.

Exploring the very small

ナノスケールへのアクセスを提供します

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お客様事例

SAXS/WAXS技術の詳細については、SAXSのページをご覧ください。

特性評価のページ では、 X線散乱を使用して ラボで実行できる測定の種類をいくつか例に挙げて紹介しています。

SAXS/WAXS機器の当社の製品ラインナップの詳細については、製品ページをご覧ください。

知識ベースのメニューからは、アプリケーションノートと、当社のラボ用機器に関連するお客様の技術論文の広範なリストにアクセスすることができます。

スタートポイントをお選びください：

SAXSとは

アプリケーション

製品

特性評価

SAXSで可能なことや当社のソリューションについてご質問がございましたら、以下までご連絡ください：[email protected]。

SAXS WAXS

SAXS WAXS – Xenocsが、ラボでのナノスケールへのアクセスを提供

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X線ビームデリバリーシステム

GeniX3Dは、画期的なデザインとFOX3DT単一反射光学系を組み合わせた業界でもユニークなソリューションです。

高フラックスソリューション

スモールスポットソリューション

X線ビームアクセサリー

Xenocs では、高品質の光学部品およびビームデリバリーシステムに加え、装置の性能を最適化するためのさまざまなアクセサリーを提供しています。

X線光学系

Xenocsは、XRDおよびXRFアプリケーションのための幅広い光学系を提案します。

2D-3Dビーム成形X線光学系

高フラックス光学系

スモールスポット光学系

コリメート光学系

1Dビーム成形X線光学系

高フラックス光学系

コリメート光学系

XRF光学系

Xeuss 3.0仕様

Nano-inXider（ナノインサイダー）の仕様

特性評価のページでは、 X線散乱を使用してラボで実行できる測定の種類をいくつか例に挙げて紹介しています。