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Xenocs XSACTソフトウエア

X線散乱の解析・計算ツール

初心者でも簡単に操作できます
包括的でパワフルなデータ解析アルゴリズム
高品質のデータ図表

幅広い解析機能

幅広いアプリケーションに対応

XSACTソフトウエアパッケージはSAXSデータの処理と解釈のための主要解析機能を含みます

XSACT特性評価機能の詳細をご覧ください

温度や機械的応力などの外部パラメータの関数としての構造進化
タンパク質構造の特性評価
ナノ粒子を含む懸濁液の質量濃度の測定
溶液および粉末中のナノ粒子のサイズ分布と比表面積の測定
混合アモルファス/秩序化材料の結晶化度

主な特長と機能

初心者でも簡単に操作できます

包括的でパワフルなデータ解析アルゴリズム

高品質のデータ図表

サービス

サポートの内容

特長と機能についての詳細

初心者でも簡単に操作できます

XSACTにより、最小限のユーザー入力でデータから結果が取得できます。

洗練されたグラフィカルインタラクションを採用したスマート設計のXSACTにより、簡単な操作で結果が取得できます。

高速データ処理
使いやすい
初心者や経験者を問わず簡単に使えます

機能を詳しく知る

スマート設計

サンプル – 測定 – 解析 – レポート – 時間の節約

取得条件に応じてデータを簡単にプロット図に描出
自動生成レポートのクリーンフォーマット
Windows / Linux用のクロスプラットフォームソフトウェア

包括的でパワフルなデータ解析アルゴリズム

XSACTには、ナノ粒子やポリマーを含む様々なタイプの材料のサイズ、構造、およびテクスチャのサンプル特性評価のための包括的な解析モジュールが含まれています。

SAXSコミュニティは、カスタムモデルや多くの異なるアプリケーションを備えた複数のアルゴリズムに依存しています。XSACTは、統合された用途の広い完全なデータ処理ソリューションを提供し、可能な限り迅速に処理を実行します。

独特の粒子サイズ解析機能
測定データのシミュレーター

機能を詳しく知る

独特の粒子サイズ解析機能

期待値最大化アルゴリズムに基づくXenocs独自のソリューション
粒子システムのサイズ分布を抽出するためのパラメータフリーの解析手法
高性能かつ統計的不確実性の提示

XSACT測定データのシミュレーター

サンプルまたは機器の特性を調整して、散乱強度をシミュレーション
機器の分解能によるスミアリング効果の評価

高品質のデータ図表の提示

データ図表の作成に必要なすべてのツールがパッケージになったXSACTは、別の視覚化ソフトウェアを必要としないため、時間が節約できます。

出力データを最もよく理解するために、科学者は多数のグラフや図表を可視化、交換、比較するツールが必要です。
XSACTは、データ処理と高度な可視化機能を組み合わせることで、取得から公開までのワークフローをスピードアップします。

高度にカスタマイズされたデータの可視化
複数形式でのデータ出力
幾何学図形を含む高品質な表示

SAXS Data Analysis Software

SAXS Data Analysis Software – Fast Particle Size Distribution

SAXS Data Analysis Software – Fast Particle Size Distribution, Nanostructure – Save Your Time With Smart Workflow Software Embedding Powerfull Algorithms


Model	Detailed specifications
Synchrotron scatterless slits (♦)	Please contact us for any technical information Discover what our customers say about it!
X-ray alignment camera (♦)	Please contact us for any technical information
Pin Diode detector (♦)	Please contact us for any technical information
Beam stop with integrated Pin Diode	Please contact us for any technical information

X線光学系

Xenocsは、XRDおよびXRFアプリケーションのための幅広い光学系を提案します。

当社は、数々の国際特許と14年あまりに及ぶ研究開発に基づき、業界唯一の単一反射多層膜光学系を開発しています。これらの光学機器では一般に、標準的な多反射光学系に比べて効率が50%以上高くなります。

Xenocsは、自社独自の複製技術により、従来の製造技術では不可能であった比類ない性能を誇る光学設計を実現します。


Mirror type	Figure	Optic efficiency (calculated over mirror length for 70µm source)
Standard Montel mirrors		Eff = 42%
Xenocs FOX 3D mirrors		Eff = 62%

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当社のXRDアプリケーション向け製品

2D-3Dビーム成形X線光学系

高フラックス光学系


Model	Beam size at focus (mm) with 60 µm source	Divergence (mrad)	Typical application
FOX 3D Cu 14-39 (♦)	0.19 x 0.19	5.4	Protein crystallography (♦) Powder diffraction
FOX 3D Cu 12-53	0.3 x 0.3	3	Protein crystallography (Long Unit Cells) Powder diffraction
FOX 3D Mo 10-31	0.13 x 0.13	4	Small molecule crystallography High pressure diffraction
FOX 3D Ag 10-30	0.13 x 0.13	3	Small molecule crystallography High pressure diffraction
FOX 3D Cr 8-30	0.20 x 0.20	6	Protein crystallography (S-SAD) Stress analysis
FOX 1D Cu 12-53	0.3	3	XRD, Powder Diffraction

スモールスポット光学系


Model	Beam size at focus (mm) with 60 µm source	Divergence (mrad)	Typical application
FOX 2D Mo 25-25 (♦)	0.08 x 0.08	5	Small mollecule crystallography High pressure crystallography
FOX 2D Cu 25-25 (♦)	0.08 x 0.08	5.3	Protein crystallography (♦) Micro Diffraction, Reflectometry
FOX 3D Cu 21-21 HC (♦)	0.08 x 0.08	70 x 35	Rapid x-ray Reflectometry (full beam) Scanning x-ray Reflectometry (with slit) Micro-XRF
FOX 3D Cu 28-10	0.04 x 0.04	17	Stress Analysis, Micro-diffraction, Micro-XRF
FOX 3D Cr 30-8	0.04 x 0.04	17	Stress Analysis, Micro-diffraction, Micro-XRF

コリメート光学系


Model	Beam size at focus (mm) with 60 µm source	Divergence (mrad)	Typical application
FOX 2D Cu 12-INF (♦)	1.2 x 1.2	1	Small angle x-ray scattering (♦) High resolution x-ray diffraction (♦) Surface scattering (♦) Thin film analysis (reflectometry stress) (♦) Microdiffraction on synchrotron (♦)
FOX 2D Mo 25-INF (♦)	0.85 x 1.3	0.5	Small angle x-ray scattering High resolution x-ray diffraction Surface scattering
FOX 2D 12-60 L (♦)	0.18 x 0.2	0.5 x 2	High resolution diffraction Small sample analysis
FOX 1D Cu 12-INF (♦)	1.2	0.8	High resolution x-ray diffraction, Powder diffraction, Reflectometry, Small angle x-ray scattering

1Dビーム成形X線光学系

高フラックス光学系


Model	Beam size at focus (mm) with 60 µm source	Divergence (mrad)	Typical application
FOX 1D Cu 12-53	0.3	3	XRD, Powder Diffraction

コリメート光学系


Model	Beam size at focus (mm) with 60 µm source	Divergence (mrad)	Typical application
FOX 1D Cu 12-INF (♦)	1.2	0.8	High resolution x-ray diffraction, Powder diffraction, Reflectometry, Small angle x-ray scattering

XRFアプリケーション用当社製品ラインアップ

Xenocsは、多層膜コーティングおよび表面加工における豊富な経験と先端計測技術に基づき、高性能XRF蛍光分析用光学系を広範囲にわたって開発しています。

自社独自の複製技術を生かして開発された新しい分析器の構造により、検出下限値と測定処理能力が向上します。

XRF光学系


Element of interest	Reference
O, F, Na, Mg, Al, Si, P, S	XAN-1
Nitrogen	XAN-2
Carbon	XAN-3
Boron	XAN-4
Mg, Al , Si	XAN-5
Be	XAN-6

X線ビームデリバリーシステム

GeniX3Dは、画期的なデザインとFOX3DT単一反射光学系を組み合わせた業界でもユニークなソリューションです。

密閉型微焦点X線源は、環境に優しいハウジング、低い所有コスト、高フラックスにより、優れたコストパフォーマンスを実現し、X線分析装置における標準となりつつあります。 Xenocsは、この技術に基づいた高性能X線ビームデリバリーシステム、 GeniX3Dを開発しました。 GeniX3D は、画期的なデザインとFOX3DT単一反射光学系を組み合わせた業界でもユニークなソリューションです。 GeniX3D は、高いビーム強度、解像度、安定性、統合のしやすさ、信頼性といった優れた特長を有しています。 GeniX3D は、さまざまなX線源およびビーム形状でご利用いただけ、幅広いアプリケーションに対応します。独自の技術による優れた性能、人間工学的デザインと信頼性を誇る GeniX3D は、世界の主なX線分析装置OEMから高く評価されています。

動画： GeniX3D、X線ビームデリバリーシステム

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当社の製品

高フラックスソリューション


Model	Beam size at focus (µm)	Divergence (mrad)	Flux (ph/sec)	Typical application
GeniX 3D Cu High Flux *	< 190	6	> 400 x 10⁶	Protein crystallography Micro stress analysis Powder diffraction
GeniX 3D Mo High Flux	< 130	5	> 25 x 10⁶	Small Molecule crystallography High pressure
GeniX 3D Cr High Flux	< 190	6	> 300 x 10⁶	Stress Analysis
GeniX 3D Cu High Convergence *	60	70 x 35	> 400 x 10⁶	Rapid X-ray Reflectometry (full beam) Scanning x-ray reflectometry (with slit) Micro x-ray fluorescence Small spot diffraction on thin film
GeniX 3D Cu Low Convergence *	< 250	3	> 120 x 10⁶	Small Angle X-ray Scattering Protein Crystallography

* 短パルスX線源（V、Cr）にも対応

スモールスポットソリューション


Model	Beam size at focus (µm)	Divergence (mrad)	Flux (ph/sec)	Typical application
GeniX 3D Cr Micro Spot	< 30	17	> 12 x 10⁶	Stress Analysis Micro-XRF Micro-XRD
GeniX 3D Cu Micro Spot	< 30	17	> 18 x 10⁶	Stress Analysis Micro-XRF Micro-XRD
GeniX 3D Mo Micro Spot	< 55	10	> 1.8 x 10⁶	Micro-XRF Micro-XRD
GeniX 3D Cu High Convergence *	60	70 x 35	> 400 x 10⁶	Rapid X-ray Reflectometry (full beam) Scanning x-ray reflectometry (with slit) Micro x-ray fluorescence Small spot diffraction on thin film

* 短パルスX線源（V、Cr）にも対応

Xeuss 3.0仕様



Source	Microfocus sealed tube: Cu, 30W/30µm, point focus. ( DIN EN 12543-5) MetalJet source D2+ (Ga). Motorized Dual source or triple source (Cu/Mo/Cr/Ga).
Optics	Patented 2D single reflection multilayer optics.
Detector	In-vacuum motorized 3-axis detectors for 2D SAXS/WAXS (Q-Xoom): --Pilatus3 R 300K hybrid photon counting detector --Eiger2 R (1M, 4M) hybrid photon counting detectors Optional WAXS detectors for SWAXS: --Pilatus3 R 100K hybrid photon counting detector --Motorized 3-axis Eiger2 R 500K hybrid photon counting detector
Sample chamber	Large vacuum chamber. On-axis sample viewing (parallax free). Attachments for operation of sample in air.
Key features	Clean Beam technology: high flux and low background beamline. Beamstopless measurement: SAXS acquisition continuously without any beamstop. Q-Xoom: Automatic change of measurement configuration over all instrument Q-range with no movement of sample measuring position. Virtual detector mode: surfaces of detection > 200 mm² x 200 mm².
Measurement capability	Nanoparticles size up to 300 nm, 500 nm or 900 nm in diameter depending on Xeuss model. Nanoparticles size up to > 2.5 microns with optional motorized Bonse-Hart module for automatic sequential USAXS/SAXS/WAXS measurements. Scattering measurements up to 2Ɵ>70° with Q-Xoom. Qmax > 49 nm^-1
Sample environment	Standard holders (multi-samples): solids, capillaries, powders. Sample holders for powders and gels. Flowcells for liquids: --- Low noise flowcell --- Capillary flowcell --- Automatic Sample Changer --- BioCube measuring cell with dynamic monitoring (compatible with pipetting robot) Temperature stages: --- Multi-purpose X-Ray Temperature Stage (-30°C to 150°C) --- High temperature sample stage (-150°C to 350°C) --- Extended high temperature sample stage (amb - 1000°C) Tensile Stage (00-600N). Humidity stage (10%-90% from ambient to 60°C). Shear stage Temperature compatible GiSAXS stage Other sample stages available under request
Software	Acquisition software with automatic data reduction in absolute units and live data display. XSACT (X-ray Scattering Analysis and Calculation Tool) for data analysis and interpretation.
General parameters	Models & Footprint : Xeuss 3.0 C (1 m x 3 m), HR (1 m x 5 m), UHR (1 m x 8 m). Maximum power consumption: < 3000 W (single phase power)

仕様詳細についてのお問い合わせはこちら

Nano-inXider（ナノインサイダー）の仕様



Source and optics	Microfocus sealed tube: Cu, 30W/30µm, point focus. ( DIN EN 12543-5) Patented 2D single reflection multilayer optics.
Detector	Dectris Pilatus 3 hybrid photon counting detectors. Two fixed detectors for continuously and simultaneously. SAXS and WAXS acquisition up to 2θ=60°.
Beam Path	Windowless beam path entirely under vacuum from beam delivery system to detector sensor
Key features	Clean Beam technology: high flux and low background beamline. Beamstopless measurement: SAXS acquisition continuously without any beamstop. Virtual detector mode: > 200° azimuth coverage with rotation of sample.
Measurement capability	Nanoparticles size up to 250 nm in diameter.
Sample environment	Standard holders: solids, capillaries, powders. Sample holders for powders and gels. Flow cells for liquids: --- Low noise flow cell --- Capillary flow cell Automatic Sample Changer Temperature stages: --- Multi-purpose X-Ray Temperature Stage (-20°C to 150°C) --- High temperature sample stage (-150°C to 350°C) --- Extended high temperature sample stage (amb - 700°C) Tensile Stage (0-200N). GiSAXS stage compatible with high temperature sample stage. Custom stages on request.
Software	Acquisition software with automatic data reduction in absolute units and live data display. XSACT (X-ray Scattering Analysis and Calculation Tool) for data analysis and interpretation.
General parameters	Fooprint: < 1x1 m². Weight: ~ 520 kg. Maximum power consumption: < 2000 W (single phase power). Self-contained: no external fluids required.
Warranty	Two years warranty and three years on X ray source.

Xenocs XSACTソフトウエア

X線散乱の解析・計算ツール

初心者でも簡単に操作できます

包括的でパワフルなデータ解析アルゴリズム

高品質のデータ図表

幅広い解析機能

幅広いアプリケーションに対応

XSACTソフトウエアパッケージはSAXSデータの処理と解釈のための主要解析機能を含みます

温度や機械的応力などの外部パラメータの関数としての構造進化

タンパク質構造の特性評価

ナノ粒子を含む懸濁液の質量濃度の測定

溶液および粉末中のナノ粒子のサイズ分布と比表面積の測定

混合アモルファス/秩序化材料の結晶化度

主な特長と機能

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高品質のデータ図表

サービス

サポートの内容

特長と機能についての詳細

初心者でも簡単に操作できます

XSACTにより、最小限のユーザー入力でデータから結果が取得できます。

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サンプル – 測定 – 解析 – レポート – 時間の節約

包括的でパワフルなデータ解析アルゴリズム

XSACTには、ナノ粒子やポリマーを含む様々なタイプの材料のサイズ、構造、 およびテクスチャのサンプル特性評価のための包括的な解析モジュールが含まれています。

機能を詳しく知る

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データ図表の作成に必要なすべてのツールがパッケージになったXSACTは、別の視覚化ソフトウェアを必要としないため、時間が節約できます。

SAXS Data Analysis Software

SAXS Data Analysis Software – Fast Particle Size Distribution

Useful links

X線ビームアクセサリー

Xenocs では、高品質の光学部品およびビームデリバリーシステムに加え、装置の性能を最適化するためのさまざまなアクセサリーを提供しています。

X線光学系

Xenocsは、XRDおよびXRFアプリケーションのための幅広い光学系を提案します。

2D-3Dビーム成形X線光学系

高フラックス光学系

スモールスポット光学系

コリメート光学系

1Dビーム成形X線光学系

高フラックス光学系

コリメート光学系

XRF光学系

X線ビームデリバリーシステム

GeniX3Dは、画期的なデザインとFOX3DT単一反射光学系を組み合わせた業界でもユニークなソリューションです。

高フラックスソリューション

スモールスポットソリューション

Xeuss 3.0仕様

Nano-inXider（ナノインサイダー）の仕様

XSACTには、ナノ粒子やポリマーを含む様々なタイプの材料のサイズ、構造、およびテクスチャのサンプル特性評価のための包括的な解析モジュールが含まれています。